三星輕薄型LPDDR5X DRAM的封裝厚度僅0.65mm,散熱控制能力更強(qiáng),適合端側(cè)AI在移動(dòng)端的應(yīng)用
LPDDR封裝采用12納米級(jí)工藝,四層堆疊,在提升Die密度的同時(shí),減少厚度,提高耐熱性
深圳2024年8月6日 /美通社/ -- 2024年8月6日,三星電子今日宣布其業(yè)內(nèi)最薄的12納米(nm)級(jí)LPDDR5X DRAM(內(nèi)存)開(kāi)始量產(chǎn),支持12GB和16GB容量。這將進(jìn)一步鞏固三星在低功耗內(nèi)存市場(chǎng)的地位。
憑借在芯片封裝領(lǐng)域豐富的技術(shù)經(jīng)驗(yàn),三星可提供超薄的LPDDR5X DRAM封裝,使移動(dòng)設(shè)備內(nèi)有多余的空間,促進(jìn)空氣流動(dòng)。散熱控制能力因此得到提升,這一屬性對(duì)于像端側(cè)人工智能類具有復(fù)雜功能的高性能應(yīng)用尤為關(guān)鍵。
“LPDDR5X DRAM在具備卓越的移動(dòng)端低功耗性能的同時(shí),還能在超輕薄的封裝中提供先進(jìn)的熱管理功能,為高性能端側(cè)AI解決方案樹(shù)立了新標(biāo)準(zhǔn)?!比请娮哟鎯?chǔ)器產(chǎn)品企劃團(tuán)隊(duì)執(zhí)行副總裁YongCheol Bae表示?!叭菍⒊种院愕嘏c客戶密切合作,不斷創(chuàng)新,提供能夠滿足符合時(shí)代的低功耗DRAM解決方案。
憑借LPDDR5X DRAM的封裝技術(shù),三星提供了其業(yè)內(nèi)最薄,采用四層堆疊結(jié)構(gòu)[1]的12納米級(jí)LPDDR DRAM。與上一代產(chǎn)品相比,厚度降低約9%,耐熱性能提升約21.2%。
通過(guò)采用更先進(jìn)的印刷電路板(PCB)和環(huán)氧樹(shù)脂模塑料(EMC)[2]工藝,新一代LPDDR DRAM的封裝厚度僅0.65毫米(mm),薄如指甲,超過(guò)之前所有12GB及以上容量的LPDDR DRAM。此外,三星優(yōu)化了背面研磨工藝[3],進(jìn)一步壓縮了封裝厚度。
三星計(jì)劃通過(guò)向移動(dòng)處理器生產(chǎn)商,和移動(dòng)設(shè)備制造商供應(yīng)0.65mm的LPDDR5X DRAM芯片,繼續(xù)擴(kuò)大低功耗DRAM的市場(chǎng)。隨著市場(chǎng)對(duì)高性能、高密度且封裝尺寸更小的移動(dòng)存儲(chǔ)解決方案的需求持續(xù)增長(zhǎng),三星計(jì)劃開(kāi)發(fā)6層24GB和8層32GB的模組,為未來(lái)設(shè)備打造超薄的LPDDR DRAM封裝。
除非經(jīng)特殊說(shuō)明,本文中所涉及的數(shù)據(jù)均為三星內(nèi)部測(cè)試結(jié)果,涉及的對(duì)比均為與三星產(chǎn)品相比較。
[1] 四層堆疊封裝,每層均由兩片LPDDR DRAM芯片組成 |
[2] 用于保護(hù)半導(dǎo)體電路免受高溫、沖擊和潮濕等外部環(huán)境影響的材料。 |
[3] 研磨晶圓的背面使厚度變薄的工藝 |